光刻机超精密位移测量及平面光栅测量技术研发项目可行性研究报告
思瀚产业研究院 华卓精科    2025-04-17

1、项目概况

本项目拟建立光刻机超精密位移测量及平面光栅测量技术的研发平台，突破制约光刻机双工件台国产化和产业化的关键技术，填补国内空白，在核心领域达到国际领先水平，为我国大规模集成电路重大装备技术创新和突破提供关键支撑。

2、项目必要性

光刻机工件台是光刻机三大核心子系统之一，对光刻机三大指标有决定性影响，其运动速度决定产率，运动误差移动均值决定套刻精度，运动误差移动标准偏差直接影响分辨率。光刻机双工件台要实现其高速超精密运动，必须有与之配套的超精密位移测量系统。

对于第一代双工件台，其位移测量系统为双频激光干涉仪，而对于第二代磁浮平面电机双工件台，其配套的位移测量系统为超精密平面光栅测量系统。后者相比双频激光干涉仪而言，测量精度更高，是 28nm 及以下光刻机双工件台的必备测量系统。要实现平面电机双工件台的国产化，首先要突破超精密平面光栅位置测量系统关键技术。

3、项目可行性

（1）项目具备技术可行性

目前北京华卓精科科技股份有限公司已掌握超精密机械设计与制造、超精密测量与控制、集成电路制造工艺等多个集成电路制造装备及零部件研发的核心技术。

（2）项目具备人才可行性

北京华卓精科科技股份有限公司拥有涵盖机械、CAE、光学、电气、软件、工艺、测试、调试等多方面人才的高素质研发团队，核心技术研发团队具有丰富的超精密机械设计、超精密制造、超精密测量、超精密控制等关键技术的研发经验。

4、项目投资概算

本项目投资预算为 8,000.00 万元，包含研发材料费、人员费用。

5、项目的具体研发内容

公司将进一步研究大尺寸超精密平面光栅标定技术，研制平面光栅位置测量系统产品，主要研发方向如下：

①研制满足浸没光刻机双工件台位置测量精度和速度需求的平面光栅干涉仪，实现干涉仪与光栅尺的超精密标定，开发具有自主知识产权的平面光栅制造工艺技术；

②面向 28nm 及以下节点浸没式光刻机整机开展应用技术研究，包括平面光栅与整机的集成装调技术、平面光栅位置测量系统参数测较技术、双工件台位置解算与精度补偿技术；

③开发用于大尺寸超精密平面光栅制造的曝光设备及相应工艺技术。

6、项目土地情况

本项目不涉及新取得土地或房产情况。

7、研发实施进度研发

项目周期为 4 年。

8、本项目与公司现有主要业务、核心技术之间的关系

光刻机双工件台是公司的核心战略产品，而平面光栅超精密测量系统是浸没式光刻机双工件台的必备测量系统。上述研究方向是对公司主要产品及核心技术的进一步开发、升级及创新。

此报告为摘录部分。定制化编制政府立项审批备案、国资委备案、银行贷款、产业基金融资、内部董事会投资决策等用途可研报告可咨询思瀚产业研究院。