成都市高新西区-高精度掩膜版制造研发中心建设项目可行性研究报告
思瀚产业研究院    2024-05-29

1、项目概述

本项目以本公司为实施主体，项目总投资额为 3,446.95 万元。公司拟新建研发中心，用于公司现有实验条件升级以及新课题的研发。本项目实施完成后将显著优化公司的研发环境，为高精度半导体掩膜版与大尺寸平板显示掩膜版扩产项目提供有力支持；

同时公司将在半导体掩膜版制造技术研究与开发、新型显示用掩膜版制造新技术研究与开发、掩膜版制造技术基础与前沿研究、高精度掩膜版制造过程仿真模拟研究等多项行业前沿技术进行前瞻性研究与开发，进一步提高公司的研发能力和自主创新能力。

2、项目实施的必要性

（1）本项目的实施有利于公司在半导体掩膜版领域进一步实现技术突破

在半导体掩膜版领域，国内大陆半导体掩膜版生产企业主要集中少数企业和部分科研院所，绝大部分集中在 130nm 及以上制程节点 Stepper Mask，90nm及以下制程节点掩膜版仍基本依赖进口，而目前我国已投产及在建的 90nm 及以下制程节点的晶圆产线超过 30 条，其掩膜版需求量还有较大缺口。因此，国内掩膜版厂商亟需在 90nm 及以下制程节点的半导体掩膜版领域实现技术突破。

公司一直致力于为我国半导体产业提供关键上游原材料的国产化配套，不断攻克半导体芯片掩膜版的核心技术。目前公司已实现 250nm 制程节点半导体掩膜版量产，满足先进半导体芯片封装、半导体器件、先进指纹模组封装、高精度蓝宝石衬底（PSS）等产品应用。同时，公司通过自主研发，已掌握180nm/150nm 节点半导体掩膜版制造核心技术并积累了一定的研究成果。

为不断地提高研发实力，加强基础性研究，实现公司技术储备与积累，公司拟新建研发中心，本项目在半导体领域研发课题的主要方向之一，是可应用于 130nm/110nm/90nm/65nm 等节点半导体掩膜版及相移掩膜版的生产制造，可满足微处理器、电源管理芯片、模拟芯片、功率分立器件、DRAM、Nor-Flash等产品的需求，研发成果的实现有利于提升我国掩膜版制造技术水平，填补国内先进制程半导体掩膜版领域的市场空白。

综上，研发中心的建成有利于公司实现技术突破，符合半导体掩膜版技术向高精度发展的主流趋势，进而有助于提升公司的核心竞争力。

（2）本项目的实施有利于公司在平板显示掩膜版领域保持技术领先

在大尺寸平板显示掩膜版领域，公司拥有国内首条 G11 超高世代掩膜版生产线，是目前我国唯一一家拥有显示领域最完整掩膜版产线的本土企业，公司的生产产线可全面覆盖 G2.5-G11 掩膜版，处于国际先进水平。公司也是国内首家突破高世代高精度半色调掩膜版制造技术、光阻涂布技术行业前沿技术的掩膜版企业。

基于公司在平板显示掩膜版领域的技术积累，公司拟进一步在不同类型超高精度平板显示掩膜版的制造展开技术研发，包含高精度二元掩膜版（BinaryMask）、半色调掩膜版，灰阶掩膜版、相移（Phase Shift）掩膜版等，可满足柔性 AMOLED、高精度 Micro-LED、QD-LED 等产品需求。研发项目旨在满足新型平板显示技术发展要求，匹配下游平板显示行业的技术发展趋势。

综上，研发中心的建成有利于保持公司在平板显示领域掩膜版技术的领先性，满足新型平板显示发展要求，优化产品结构，提高公司的市场占有率，有利于公司的长远发展。

（3）打破国外技术垄断，自主研发势在必行

掩膜版是半导体及平板显示制造的关键上游原材料之一，而目前半导体及平板显示用掩膜版的尖端制造技术主要由美国福尼克斯、日本 HOYA、SKE 等国外领先企业掌握，并对相关关键技术进行了较为严格的封锁，导致我国高端掩膜版长期依赖进口。半导体及平板显示是电子信息产业的两大支柱产业，中高端掩膜版的自主研发制造对于提升我国半导体及平板显示企业话语权、降低终端产品成本，完善国内半导体及平板显示产业链有着至关重要的作用。

公司在产品生产、研发方面一直致力于自主化的发展道路，经过多年的技术积累，成功建设我国首条 G11 掩膜版生产线，打破了我国 G11 高世代掩膜版必须依赖进口的局面。此外，公司在高精度半色调掩膜版领域打破国外技术垄断并实现不同世代产品的量产，已成功通过京东方和中电熊猫等下游客户的严格认证并实现销售。

但与国外领先厂商相比，公司起步较晚，在高精度半导体掩膜版的制造、掩膜版上游原材料技术上还存在一定的差距。本次公司建设研发中心，将培养掩膜版行业专业技术人才，并针对行业前沿技术进行研发，打破国外技术垄断，提升公司的自主研发能力，推动我国掩膜版行业的技术变革与健康发展。

3、项目实施的可行性

（1）深厚的技术积累为项目的实施提供技术保障

掩膜版领域的研发与制造具有高技术、重资产、长周期的特点，具有较高的进入门槛。公司自成立之初便一直专注于掩膜版的研发与制造，经过 20 多年的技术沉淀与探索，已经形成了一套完整的涵盖各生产工艺环节与产品制造技术的核心技术体系。2020 年 3 月，公司成功通过广东省科学技术厅专家评审，被认定为“广东省超高精度激光加工掩膜版工程技术研究中心”。

在重大技术的突破方面，公司于 2019 年成功实现国内首条 G11 掩膜版投产，这标志着我国首次具备 G11 掩膜版的量产能力，对于完善我国平板显示产业关键原材料的国产化配套、逐步实现进口替代具有重要意义。

通过自主研发与技术创新，公司于 2018 年成功实现 G2.5 等中小尺寸半色调掩膜版投产，并于 2019 年先后研发并投产 G8.5、G11 TFT-LCD 半色调掩膜版，打破国外厂商在半色调掩膜版领域长期的技术垄断，目前公司的半色调掩膜版已成功通过京东方和中电熊猫等下游客户的严格认证并实现销售。

公司十分注重技术的研发与转化应用，通过对行业内前瞻性和关键性技术的不断探索，已经掌握了多项核心技术，取得多项行业专业奖项。公司多次承担国家及深圳市政府部门的技术改造、技术攻关等科研项目，其中高世代光掩膜版产线建设项目获得国家发改委、工信部批复，纳入 2017 年电子信息产业技术改造专项。

紧随行业技术发展趋势，公司不断更新迭代自身的技术体系以保持技术的先进性，深厚的技术积累能够为本项目的实施提供了扎实的技术保障。

（2）持续的研发投入为项目的实施提供资金保障

公司始终坚持技术创新、产品领先的发展战略，多年来持续加大研发投入，不断优化研发条件、引进先进设备并培养专业人才。近年来，公司研发费用的投入不断提升，2019-2021 年，公司研发费用分别为 1,979.17 万元、2,835.82 万元和 2,299.74 万元，占营业收入的比例分别为 9.07%、 7.06% 和4.66%。

公司注重研发成果的转化，研发的新产品在成功通过客户的严格验证后，为公司打开了更大的市场空间，显著拉动了公司营收和利润的快速增长，形成了以技术创造业绩，以业绩支撑研发的良性循环。公司持续增长的研发投入体现出公司对研发能力的高度重视，也为本项目的实施提供了必要的资金保障。

（3）完善的研发机制和优秀的研发团队为项目的实施提供坚实基础

经过多年的自主研发经验积累，公司目前已形成一套系统、规范、科学的研发体系。公司对研发活动实行项目制管理，对不同学科方向与技术能力的人员进行精细化的分工与合作。

公司重视培育一支高素质的、创新能力过硬且具有团队精神的研发人才队伍，目前公司的技术团队结构稳定，配置合理。公司的研发团队拥有优秀的高素质人才，研发骨干大都具有较长的研发工作年限，且拥有专业的教育背景与技术能力以及独立解决问题的能力。同时公司重视人才的选拔与培养，定期从国内各高校招聘优秀毕业生，充实人才队伍，完善人才梯队建设，为项目实施提供坚实基础。

4、项目投资概算

本项目总投资 3,446.95 万元。

5、项目实施进度安排

本项目建设期为 24 个月。

6、项目审批、核准或备案程序履行情况

本项目的实施主体为路维光电，通过租赁成都路维的厂房实施。该项目已完成四川省企业投资项目备案（川投资备[2020-510109-39-03-504825]FGQB-0523 号），且已取得环评批复（成高环字〔2021〕8 号）。

7、项目环保情况

本项目设计充分考虑了环境保护因素，本项目所产生的污染主要包括废气、废水、噪音和固体废物，公司已经对污染情况进行评估和综合治理论证，并已形成综合治理方案。上述污染经处理或治理后，能达到国家规定排放标准的要求，基本无不良环境影响，符合国家环保要求。

2021 年 3 月 19 日，成都高新区生态环境和城市管理局对本项目出具成高环字〔2021〕8 号《关于对深圳市路维光电股份有限公司路维光电研发中心建设项目<环境影响报告表>的批复》，同意本项目建设。

8、项目用地情况

项目建设地点为成都市高新西区康强三路 1666 号。本次募投项目通过公司租赁成都路维的厂房实施，成都路维已取得川（2019）成都市不动产权第0278193 号《不动产权证书》，土地用途为工业用地。