相比于国外,我国溅射靶材行业起步较晚。20 世纪 90 年代,为发展薄膜技术及薄膜材料,国家计委、国家科委、国家自然科学基金委及地方政府相关部门发布了一系列政策支持镀膜及相关材料的发展,在真空镀膜、低温、压力容器等方面积累了一定的技术基础,为本土溅射靶材企业的发展创造了良好的研发基础和产业化条件。
受限于技术、下游应用市场尚处起步阶段等因素,早期我国溅射靶材行业发展较为缓慢,具备规模化生产能力和较强研发实力的企业较少,溅射靶材主要应用于中低端产品。进入 21 世纪,我国宏观经济进入高速发展期,电视、电脑、手机等消费电子产品市场迅速发展,相关终端应用领域市场规模不断扩大,从而推动了我国本土溅射靶材企业和国内溅射靶材市场的快速发展。
经过多年的发展,国内溅射靶材企业已经取得了长足的发展和进步,国产高纯、高性能溅射靶材企业通过持续的自主研究开发逐渐突破关键技术,并不断扩大生产制造规模,在技术开发、产品性能、生产规模、产品质量、市场品牌等方面的市场竞争力正在不断稳步提升,打破了溅射靶材行业长期被境外大型厂商垄断的不利局面。思瀚发布《2023-2027年溅射靶材行业市场现状与投资发展战略规划报告》
近年来,随着国内平面显示和半导体集成电路产业迅速发展,下游产业逐步向国内转移,带动了国内溅射靶材行业的快速发展,我国溅射靶材产业逐渐从单一的规模增长转变为进口替代的结构化增长。
以江丰电子、阿石创、有研新材、隆华科技、先导薄膜、映日科技以及欧莱高新材料等为代表的一批具有较强市场竞争力的本土靶材企业成功进入了国内外知名平面显示、半导体集成电路等下游企业的供应链环节,对境外厂商在国内的市场份额形成了进口替代,并实现了部分出口,保障了国内重点行业上游关键原材料的自主可控及供应安全。
2017-2020年中国高性能溅射靶材行业市场规模由185亿元增长至 283 亿元,年复合增长率为 15.2%。未来,伴随着显示面板产能转移、半导体国产化进程加速以及太阳能电池市场景气度不断上升,下游市场对高性能溅射靶材需求量将不断增加。2021-2026 年我国高性能溅射靶材市场前景广阔,预计 2026 年市场规模将增长至 653 亿元,年复合增长率将达到 15.0%。