掩膜版的主要原材料为掩膜版基板,同时,掩膜版行业下游客户对其最终产品的品质要求不断提高,促使掩膜版企业不断追求产品品质上的突破,而掩膜版基板的质量,对掩膜版产品最终品质具有重大影响。
掩膜版下游应用领域为各类电子元器件,其中平板显示、半导体芯片为两大核心应用领域。从具体应用上来说,掩膜版是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具,是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩膜版用于下游电子元器件制造业批量生产,是下游行业生产流程的关键模具,是下游产品精度和质量的决定因素之一。
1、上游行业
从降低原材料采购成本和控制终端产品质量出发,掩膜版企业陆续向上游产业链延伸,部分企业已经具备了研磨、抛光、镀铬、涂胶等掩膜版基板全产业链的生产能力,这不仅可以有效降低原材料的采购成本,而且能够有效提升掩膜版产品质量。
2、下游行业
掩膜版行业的发展主要受下游平板显示行业和半导体芯片行业等行业的发展影响,与下游终端行业的主流消费电子和车载电子等产品的发展趋势密切相关。整体而言,由于下游行业技术发展和对产品质量要求的提高,掩膜版产品精度趋向精细化。平板显示行业,随着消费者对显示产品的要求逐步提高,手机、平板电脑等移动终端向着更高清、色彩度更饱和、更轻薄化发展。
这一趋势对平板显示掩膜版的半导体层、光刻分辨率、最小过孔、CD 均匀性、精度、缺陷大小、洁净度均提出了更高的技术要求。
半导体芯片行业,6 英寸半导体成熟制造工艺主要为 800nm、500nm、350nm和 250nm 等节点工艺,8 英寸半导体成熟制造工艺主要为 500nm、350nm、250nm、180nm、130nm 和 110nm 等节点工艺,12 英寸半导体目前境内主流制造工艺为150nm、110nm、90nm、65nm、45nm、28nm 和 14nm 等节点工艺。
未来半导体芯片的制造工艺将进一步精细化工艺发展,这对与之配套的半导体芯片及封装用掩膜版提出了更高要求,对线缝精度的要求越来越高,掩膜版厂商采取例如光学邻近校正(OPC)和相移掩膜(PSM)等技术来应对。
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