(1)项目基本情况
晶合集成持续深耕先进工艺,在未来40nm等技术开发完成的基础上,公司将进一步开发28nm逻辑平台和28nmOLED显示驱动工艺平台:在制程方面,28纳米将开发后闸极的高介电常数金属闸极(HKMG)制程提供更快速、更低功耗的元件性能,同时采用Low-K超低介电质材料以降低后段金属导线的漏电;在元件方面,提供多种不同阈值的组件(0.9V/1.8V/2.5V等)供客户设计使用。
同时,该项目将导入业界最先进的金属闸极工艺(HKMG),不仅能够大幅减小漏电,还能有效降低栅极电容,提升电晶管驱动能力。
上述研发项目完成后,公司将具备生产28纳米逻辑芯片、无线逻辑芯片和OLED面板驱动芯片的技术能力,终端应用包括物联网、无线逻辑传输、高端手机屏幕等。
(2)项目投资概算
本项目将组建约200人的研发团队,总投资为24.5亿元,主要包括主机台设备投资、测试软硬件费用和人力费用。
(3)项目周期和时间进度
本项目预计于2022年第三季度开始实施,具体时间节点如下:
2022年第三季度:28 纳米逻辑及 OLED 芯片工艺平台项目启动
2025年底:完成 28纳米 OLED/逻辑芯片工艺平台开发