光伏薄膜沉积设备应用情况
思瀚产业研究院    2022-12-20

光伏薄膜沉积设备主要应用于太阳能晶硅电池片的制造环节，根据电池不同工艺和所需的薄膜性质，所采用的薄膜沉积设备会有所不同。2018 年-2021年，我国新建成产线基本全部为 PERC 产线，针对目前已经大规模生产的PERC 电池生产技术，生产设备基本实现国产化，其中薄膜沉积设备主要用于PERC 电池的钝化和减反膜的制备。

对于新型高效电池来说，目前产业化前景最为明确的 TOPCon 电池和 HJT电池对于薄膜沉积的需求更高。TOPCon 电池生产线可以由 PERC 电池生产线升级改造实现，除原薄膜沉积需求外，还增加了隧穿层和掺杂多晶硅层镀膜需求。HJT 电池整体结构变化较大，其制造环节只需 4 大类设备，分别是制绒清洗设备（投资占比 10%）、非晶硅沉积设备（投资占比 50%）、透明导电薄膜设备（投资占比 25%）和印刷设备（投资占比 15%），其中非晶硅沉积设备、透明导电薄膜设备均需要用到薄膜沉积设备。

以 PERC 和 TOPCon 电池为例，其工艺流程及各环节主要设备如下：

在 PERC 电池背面及 TOPCon 电池正面的氧化铝和氮化硅叠层的制备中，公司开发的 PEALD 二合一平台能够在同一台设备中完成两种薄膜的制备，除了能提高薄膜质量以提供更好的钝化效果之外，还有效降低了客户单位产能的设备投资成本。

在 TOPCon 电池关键工艺步骤隧穿层和多晶硅层的制备中，LPCVD 为起步较早的技术路线，但市场推广进程较慢，主要因为其存在绕镀严重、成膜速率低、需二次掺杂过程繁琐、后期运营成本高等尚未解决的技术难题。而公司开发的 PEALD 二合一平台，集成了 PEALD 和 PECVD 两种工艺，分别用于制备隧穿层和多晶硅层，能够弥补 LPCVD技术存在的不足。